京华激光于7月22日发布了股票交易的危险提示公告。公告中指出，其控股的美国菲涅尔制版科技公司专心于光刻机的研发，但这些光刻机首要运用在在光学制版范畴，并非用于半导体制作。与我们一般议论的用于芯片制作的光刻机比较，两者在精确度和复杂性上有显着不同。详细而言，公司的光刻机为微米等级，而芯片职业选用的光刻机则到达了纳米等级，两者精度距离到达千倍之多。而且，公司现在存在光刻机因技能限制，无法经过改进晋级至芯片制作所需的等级。

  美空军NGAD被暂停，日欧合研未来战机不合显着，多国第六代战机研发项目陷入困境！

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  英媒：乌军总司令称，俄军正向波克罗夫斯克发起大规模进攻，“整个前哨都在剧烈战役”

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  随时毁台？光刻机巨子ASML称，假如大陆，可长途瘫痪台积电EUV光刻机：全球芯片供应链受要挟

  据彭博社报导，有音讯指出，若中国大陆对台湾采纳军事行动，芯片制作巨子阿斯麦与台积电可以长途停用制作芯片的关键设备，其间包括最顶级的极紫外光刻机（EUV）。该信息源于美国官员暗里向荷兰及台湾地区官员表达的关于潜在台海抵触结果的忧虑