?光刻工艺是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤，该步骤利用曝光和显影在光刻胶层上刻画几何图形结构，然后通过刻蚀工艺将光掩模上的图形转移到所在衬底上。 自1961年第一台光刻机诞生以来，光刻机经历了接触式接近式投影式的发展路线，如今以投影式中的步进扫描式光刻机为主流

  近日，来自冲绳科学技术大学院大学（OIST）的Tsumoru Shintake教授提出了一项革命性的极紫外（EUV）光刻技术，该技术不仅超越了现有半导体制造的界限，更预示着行业未来的新篇章。

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  德中（天津）技术发展股份有限公司已经正式参评“维科杯·OFweek2024年度激光行业最具成长力企业奖”。

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  美光（江苏）三维科技有限公司已正式参评“维科杯·OFweek2024年度激光行业最佳精密激光设备技术创新奖”。

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